技術中心
| 卷繞鍍膜設備的原理？ |
| 發布時間：2025-01-20 瀏覽： 次 |
|
卷繞鍍膜設備的原理主要包括真空卷繞鍍膜機和磁控濺射卷繞鍍膜機兩種類型。 真空卷繞鍍膜機原理 真空卷繞鍍膜機主要由真空室、卷繞裝置、加熱係統和控製係統等部分組成。在真空環境下，加熱係統將蒸發源材料加熱至熔化狀態，然後蒸發並凝結在薄膜材料表麵形成所需鍍膜。控製係統控製卷繞裝置的運動，使薄膜材料連續通過蒸發源，直到所需厚度的鍍膜形成1。 磁控濺射卷繞鍍膜機原理 磁控濺射卷繞鍍膜機采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法，將各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上，進行單層或多層鍍膜。磁控濺射過程中，惰性氣體在高壓電場作用下電離成Ar+離子，這些離子高速撞擊靶材，使靶材原子濺射出來並沉積在基片上形成薄膜。 應用領域 卷繞鍍膜設備廣泛應用於各種領域，包括包裝、裝潢、印刷、紡織、食品、防偽、卷煙和電子工業等。 本文由忘忧草黄色视频機廠家忘忧草视频网站真空收集整理自網絡，僅供學習和參考! |
  |